量子点材料的制备方法有哪些？

量子点材料的制备主要依靠两种有效策略：基于物理真空的方法和湿化学方法。

1. 物理真空法
自上而下的物理真空制造依赖于光刻或铣削，在现有半导体中重新控制晶体的体积，这种方法获得的量子点已广泛应用于光纤通信、军用夜视摄像机、航空航天。

2. 湿化学法

湿化学方法制备胶体量子点是一种有别于物理真空外延的方法，其可以通过选择前驱体和表面活性剂，以及通过控制反应温度和时间，能够精确地控制量子点的大小和形状。又得益于溶液的沉积技术具有可扩展性，使得胶体量子点非常适合实现大面积器件，其薄膜制造能够与各种基板相互兼容，这有助于与硅电子、塑料电路、光纤和织物等平台的集成。

由于量子点的形貌可控性，使得其具有优异的光学与电子特性。其中，根据调节量子点的尺寸大小，可以使其能量带隙覆盖从紫外区（UV）至红外区（IR）（图 3）；在高度单分散的胶体量子点中，电子态的离散和原子状结构又导致其拥有较窄的集合发射线宽，这有利于实现在下一代显示器中达到所需的色彩纯度；量子点的表面体积比很大，使得它们对环境非常敏感，这为量子点与环境的交互提供了一种新的途径，其可以被连接到蛋白质、抗体或其他生物物种上，用作可光学寻址的生物标记；与传统半导体相比，量子点表现出适度的载流子迁移率，其在载流子限制、界面特性和电子耦合之间能够表现出复杂的相互作用。

图译：撰稿人 Golden Bean

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